Implantation Diffusion 장점 불순물의 농도를 자유롭게 조절 고용도 이상 주입 가능 다양한 Profile을 만들 수 있다 부산물이 생성되지 않음 낮은 온도에서 진행하기 때문에 추가적인 diffusion을 방지할 수 있다 가격이 저렴하다 대량으로 공정 가능하다 단점 시간이 오래 걸리는 고가의 설비 웨이퍼가 손상된다 챔버가 초 고진공이어야 한다 불순물의 농도가 표면에서 제일 높다 주입 불순물의 고용도 한계 존재 Profile이 열처리를 통해서 erf나 Gaussian에 국한된다. 표면에 SiO2 부산물이 생성된다 열과 소스 제어가 어렵다. 이온 주입기는 위와 같이 5가지의 과정을 거친다. ① Ion Source:플라스마를 이용하여 다양한 이온을 생성한다. ② Mass spectrometer:..
